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不同局部活動義齒設計之應力分析

~

李惠娥

不同局部活動義齒設計之應力分析

Record Type:	Language materials, printed : monographic
Author:	吳如惠,
Secondary Intellectual Responsibility:	李惠娥,
Secondary Intellectual Responsibility:	王兆祥,
Place of Publication:	高雄市
Published:	吳如惠;
Year of Publication:	民90
Description:	III,92面圖 : 30公分;
Notes:	參考書目:面43-50

不同局部活動義齒設計之應力分析
吳, 如惠

不同局部活動義齒設計之應力分析 / 吳如惠著 ; 李惠娥, 王兆祥指導 - 高雄市 : 吳如惠, 民90. - III,92面 ; 圖 ; 30公分.
參考書目:面43-50.

李, 惠娥

不同局部活動義齒設計之應力分析
LDR:00618nam0 2200169 i 450 001 39433
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101 $a chi
200 1 $a 不同局部活動義齒設計之應力分析 $f 吳如惠著 $g 李惠娥, 王兆祥指導
210 $a 高雄市 $d 民90 $c 吳如惠
215 $a III,92面 $c 圖 $d 30公分
300 $a 參考書目:面43-50
328 $a 碩士論文--高雄醫學大學牙醫學研究所
517 1 $a Stree distribution of removable partial dentures with different designs
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702 1 $a 王 $b 兆祥 $3 22959
801 0 $a cw $b 高雄醫學大學
900 $c 到館:2001/10/17 $d 編目:2001/10/17

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