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雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
~
王堯庭
雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
Record Type:
Language materials, printed : monographic
Author:
王堯庭,
Secondary Intellectual Responsibility:
黃純德,
Place of Publication:
高雄市
Published:
王堯庭;
Year of Publication:
民88
Description:
80面圖 : 30公分;
Notes:
含參考文獻
雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
王, 堯庭
雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
/ 王堯庭撰 ; 黃純德指導 - 高雄市 : 王堯庭, 民88. - 80面 ; 圖 ; 30公分.
含參考文獻.
黃, 純德
雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
LDR
:00532nam0 2200157 i 450
001
6198
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0171732
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平裝
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贈
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新台幣250元
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雷射與氟化物合併使用對牙釉質表面抗酸性的影響
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王堯庭撰
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高雄市
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碩士論文--高雄醫學院牙醫學研究所
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王
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高雄醫學院
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到館:1999/09/16
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編目:1999/09/16
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前棟2F學位論文區 2F Dissertations (Front Building)
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00126057
前棟2F學位論文區 2F Dissertations (Front Building)
不流通
博碩士論文 (Dissertations)
T 008.8 8456
一般使用(Normal)
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